フォトリソグラフィ半導体の
露光工程において微小パターン形成には、波長の短い光を用いた露光が必要となる。
このフォトリソグラフィには、紫外線が使用される。
フォトリソグラフィでは、半導体表面に塗布された、フォトレジストと呼ばれる感光性の樹脂に、フォトマスクと呼ばれるガラス板上に描かれた図形を通して紫外線を照射し、マスク上に書かれた構造をフォトレジスト上に転写する。
その後、この様に形成されたレジストをさらにマスクとして、エッチング、メタル形成、酸化膜形成等を行い、目的の構造を作成する。
初期のフォトリソグラフィでは、光源にg線が使用されていたが、その後、加工構造の微細化に伴い、i線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、F2エキシマレーザーと短波長化が進み、更に短波長化を進めるため、これらの液浸エキシマレーザーも開発されている。
研究段階ではEUV、X線を用いた露光装置もある。
この様なフォトリソグラフィは半導体やICのみならず、プリント基板の製造においても使用されてる。
このフォトリソグラフィには、紫外線が使用される。
フォトリソグラフィでは、半導体表面に塗布された、フォトレジストと呼ばれる感光性の樹脂に、フォトマスクと呼ばれるガラス板上に描かれた図形を通して紫外線を照射し、マスク上に書かれた構造をフォトレジスト上に転写する。
その後、この様に形成されたレジストをさらにマスクとして、エッチング、メタル形成、酸化膜形成等を行い、目的の構造を作成する。
初期のフォトリソグラフィでは、光源にg線が使用されていたが、その後、加工構造の微細化に伴い、i線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、F2エキシマレーザーと短波長化が進み、更に短波長化を進めるため、これらの液浸エキシマレーザーも開発されている。
研究段階ではEUV、X線を用いた露光装置もある。
この様なフォトリソグラフィは半導体やICのみならず、プリント基板の製造においても使用されてる。
update:2010年02月21日
